SE500adv 組合式橢偏儀
名稱：涂鍍層測厚儀
品牌：
型號：
簡介：SE500adv 組合式橢偏儀簡單信息： 高性能、高可靠性，擁有業內最高測量精度。可測量兩層膜厚度，或一層膜厚度和折射率。CER模式，可結合反射式膜厚儀和激光橢偏儀，給出測量數據。選件與SE400選件相同,迄今為止最簡單易用的橢偏儀 SE ...
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- 產品介紹
SE500adv 組合式橢偏儀簡單信息： 高性能、高可靠性，擁有業內最高測量精度。可測量兩層膜厚度，或一層膜厚度和折射率。CER模式，可結合反射式膜厚儀和激光橢偏儀，給出測量數據。選件與SE400選件相同, 迄今為止最簡單易用的橢偏儀
• SE 500adv結合橢偏測量和反射測量
• 可消除橢偏測量對透明膜厚度的周期不確定性
• 膜厚測量范圍可擴展至25000 nm.
• 激光波長632.8 nm
• 反射計光譜范圍450 nm-920 nm
• 光斑直徑80 μm
• 150 mm (z-tilt)樣品臺
• 角度計，可變入射角度，步進5°
• LAN連接電腦
CER組合橢偏儀SE 500advanced可作為激光橢偏儀，CER組合式橢偏儀或反射膜厚儀FTPadvanced操作。比常規激光橢偏儀有更好的適應性。
作為橢偏儀操作
單角度和多角度測量，可測量最多三層膜的厚度和光學參數，測量波長632.8nm，有最高的測量精度。
作為反射式膜厚儀FTPadvanced操作
白光正入射測量，可測量透明膜或弱吸收薄膜，厚度最大可達25μm。配置更先進的軟件FTPexpert后能夠測量多層膜。
作為CER組合橢偏儀操作
解決了透明膜的周期不確定性問題，并由于確定的膜厚周期，折射率測量精度顯著增加。可測量透明膜的Cauchy系數。
技術指標:
Ψ,Δ精度，90°位置透射測量: δ(Ψ)=0.002°, δ(Δ)=0.002°
長時穩定性: δ(Ψ)=±0.01°, δ(Δ)=±0.1°
膜厚精度: 0.1 Å for 100 nm SiO2 on Si
折射率精度: 5×10-4 for 100 nm SiO2 on Si
精度定義為30次測量的標準差
長時穩定性為90°位置時24小時內測量的差值
選項
• 手動x-y樣品臺，行程50 mm
• Mapping地貌圖掃描 (x-y, 最大200 mm, 真空吸附)
• 攝像選項，用于樣品校準和表面監視
• 30 μm微細光斑
• 第二激光波長1550
• 自動對焦
• SIMULATION軟件
廠商名稱： SENTHCH
商品名稱： 組合式橢偏儀
商品型號： SE500adv
